隨著台積公司產能擴張，原物料需求亦不斷成長，為確保製程關鍵材料─光阻穩定供應，台積公司打造創新商業模式，將曝光機台以租賃方式提供光阻供應商使用，降低其投資成本、提升來台設廠意願，民國110年成功設立全台第一座極紫外光（Extreme Ultraviolet, EUV）光阻生產工廠；截至民國111年4月，已產出超過千瓶EUV光阻劑，創造逾新台幣1億元商業價值，年產值更超過新台幣10億元，同時達到台積公司資產活化再利用效益，落實產業共好。

活化機台再利用價值，達成光阻在地化生產

光阻是半導體微影製程的重要材料，因驗證其品質的曝光機台售價與保養費用高昂，使光阻供應商來台設廠進度難以推進。為解決光阻供應商投資成本過高問題，同時促進在地供應鏈發展，台積公司資材供應鏈管理處攜手營運資源規劃處、晶圓十二A廠，依產能需求全面盤點廠內機台資源，將曝光機台出租予光阻供應商，使其無須額外購買機台驗證光阻品質；民國109年成功邀請光阻供應商來台設廠，不僅生產週期由28天縮短為17天、減少18%空運過程碳排放量，光阻在地化生產年產值更逾新台幣10億元，有效降低進口供料風險與成本支出。

台積公司以創新商業模式推動光阻供應鏈在地化發展，未來將持續複製此成功經驗，並評估於民國111年第4季建立「機台租賃平台」，活化廠內不同類型機台再利用價值，提供有需求的供應商使用，實踐責任供應鏈承諾。