台積公司首創環境友善的「乾式EUV光罩潔淨技術」,運用落塵分析技術取代傳統的沖洗流程,有效削減99%落塵率
台積公司首創環境友善的「乾式EUV光罩潔淨技術」,運用落塵分析技術取代傳統的沖洗流程,有效削減99%落塵率
台積公司選用無保護膜的EUV光罩以提高透光性,減少EUV微影製程曝光光能損耗

台積公司首創「乾式EUV光罩潔淨技術」,累計創造新台幣20億元改善效益

朱遠志
胡凱強
張珮琳

台積公司領先全球導入極紫外光(EUV)微影製程技術,協助客戶快速實現先進產品設計。為達優質的EUV微影良率並實踐綠色製造使命,台積公司首創環境友善的「乾式EUV光罩潔淨技術」取代傳統的沖洗流程,透過分析落塵、排除汙染源的方式,成功使機台內每一萬片晶圓曝片的落塵數從數百顆減少到個位顆數,落塵率削減99%;導入試產迄今累計節水量約735公噸,降低化學品使用量約36公噸。

分析、追查、根除落塵來源,捍衛產品品質

依製程的需求,EUV微影製程光罩分為有/無保護膜二種。台積公司選用無保護膜的EUV光罩以提高透光性,減少EUV微影製程曝光光能損耗;為進一步解決無保護膜EUV光罩的落塵問題,台積公司品質暨可靠性組織攜手技術發展、營運組織,民國107年起,共同開發落塵分析技術。

台積公司以顛覆傳統的創新思維,研發「乾式EUV光罩潔淨技術」,透過乾式技術快速去除落塵,取代需要使用純水與化學品的濕式清潔手法;同時,以次奈米級分析技術精準定位落塵來源,從根本排除汙染源。經不斷的測試與優化,民國109年成功使落塵削減率超過99%。

台積公司乾式EUV光罩潔淨技術

乾式潔淨技術提升能資源使用效率,累計創造20億元改善效益

藉由乾式EUV光罩潔淨技術的創新,台積公司不僅達成利用EUV微影製程技術領先量產的目標,同時資源使用效率亦進一步提升,自民國107年導入試產迄今,除有效減省水、化學品等能資源使用量之外,依據生產週期控管系統顯示,乾式潔淨技術導入後大幅縮短光罩保修頻率與時間,除使光罩使用率躍升超過80%,亦延長先進製程EUV光罩壽命,累計創造的改善效益達新台幣20億元。

民國108年,台積公司進一步發展乾式EUV光罩潔淨技術自動化,已於民國109年1月全面導入十二吋晶圓廠區量產;目前台積公司品質暨可靠性組織持續開發更微小的落塵分析及清潔技術,為未來更精密的先進製程打下穩健的品質管理基礎,實踐科技與生態並存的綠色製造承諾。

台積公司乾式EUV光罩潔淨技術發展時程